一套529万，中科院力主支持国产EDA软件，“卡不住”了

这两年升级版里面央处理器被“托脖子”，本土半导体科技产业发展减慢，也使得人们对于自主里面央处理器工厂的关注日益增加。

很多人都知道，目前最高性能的里面央处理器制造，并不需要加到EUV光刻机这套极为重要通讯设备，而独家掌握这种通讯设备的ASML，却不能将EUV光刻机自由交货给里面芯国际这样的本土里面央处理器厂家，于是大家对于国产里面央处理器生产关心最多的，则是光刻机的合作开发进展。

其实国产里面央处理器的突破，不仅仅并不需要光刻机、刻蚀机这样的硬件通讯设备，里面央处理器结构设计硬件也至关重要。尤其是半导体辅助结构设计硬件EDA，既是里面央处理器结构设计的基础物件，也是里面央处理器验证的应该硬件。升级版海思之所以很难成为全球领先的里面央处理器营运商，也离不开高性能的EDA硬件，其重要性不亚于光刻机。

然而在更长一段一时期内，我们的里面央处理器结构设计虽然很难紧跟21世纪步伐，也出现了海思、展锐这样位列21世纪位居的厂家，但对外地EDA的仰赖性都非常爆冷，美国EDA的三大巨擘Cadence、Synopsys和Mentor，其在本土的据统计市场份额曾经大幅提高90%，希望借助于它们基本上不太现实。

这也意味着，本土EDA带电粒子产品几乎看不出市场机不会，一旦这些巨擘断供或者停止授权，很似乎就不会掐断要务里面央处理器科技产业前端结构设计的源头，影响之大不言而喻。因此，以外大东后于在内的一些国产EDA合作开发政府部门，这些年一直在集里面精力绕过研制成功进程，希望能早日摆脱这种被动局面。

努力好不容易获得仍要。稍后，由里面科院微带电粒子所EDA的里面心协同的“高性能计算”课题专项，EDA跨平台工程建设通过了整体综合评价，并且已经转为商业活动应用，形成了可持续运营的机制。这或许是国产EDA发展的一个极为重要突破。

不仅如此，里面科院还执意支持者国产EDA硬件和方面的国产硬件跨平台。就在上个月底，里面科院微带电粒子所EDA物件采购工程建设结果征求意见，一套529万，虹大东后于的EDA物件，可以说具有非常大的带动作用和先导普遍性。

近日，在里面科院计算所预计350万的EDA结构设计跨平台采购工程建设里面，这次明确要求不受限制采购进口，只能选用国产带电粒子产品。敢于提这样的研制成功要求，一方面说明我们在支持者国产EDA合作开发上，力度和急于都是很大的。

另外一方面，也说明局限性的国产EDA带电粒子产品，已经很难在一定程度上满足里面央处理器结构设计和合作开发的并不需要，已经很难逐渐摆脱对三大EDA巨擘的仰赖了。正如一些外媒所惧怕的，用不让多久，EDA硬件就“托不让”里面国新公司了。

当然，在愉悦的同时我们还是要认识到EDA的幅度所在，而不是真的以为“托不让”了。要涂漆高性能的EDA物件，不仅并不需要优秀的算法，还不应该有高性能的里面央处理器制造工艺进行验证，在缺乏高性能工艺制程的情况下，国产EDA要与外地巨擘同台竞争，尚需假以时日。

鉴于此，国产EDA的下一步，还不必继续加快合作开发转为和生产应用支持者。首先要加快初创和持续的合作开发转为，这方面除了里面科院、大东后于等机械工程合作开发政府部门，除此以外有知名大学也参加进来了。

根据本土EDA从业者拥有极为重要核心技术的概伦带电粒子在公众号透露，该新公司除此以外与北大达成双方同意了依托EDA科技联合实验室的共同双方同意，旨在培养更多EDA人材，促进EDA技术科技和国产EDA推广。这又是一个非常好的开始。

此外，要支持者国产EDA的发展，就是要有科技产业生态系的支持者。买一套529万的硬件还不够，还并不需要更多的科技产业伙伴，以外里面央处理器结构设计和制造厂家，像里面科院一样执意带头支持者国产EDA硬件，如果因为我们与外地带电粒子产品有幅度，就不能，不支持者，那就很难发展上去。

相反，只要有持续的人材和合作开发转为，有科技产业生态系的支持者，随着合作开发的深入，带电粒子产品将不会更丰富完善。深信用不让多久，国产EDA替代外地带电粒子产品的比例就不会更高，我们不会发掘出，真的像外媒惧怕的，希望“托”也托不让了。